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玉崎科學半導體設備理學Rigaku射線膠片厚度
簡要描述:

玉崎科學WaferX 310半導體設備理學Rigaku射線膠片厚度
玉崎科學半導體設備理學Rigaku射線膠片厚度

用于薄膜評估的熒光 射線分析儀

  • 產品型號:WaferX 310
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-29
  • 訪  問  量:154

詳細介紹

玉崎科學半導體設備理學Rigaku射線膠片厚度

玉崎科學半導體設備理學Rigaku射線膠片厚度



波長色散X射線熒光光譜儀(WD-XRF),能夠以無損、非接觸的方式同時分析300mm和200mm晶圓上各種薄膜的膜厚和成分。

這是一款波長色散射線熒光光譜儀(WD-XRF),能夠以無損、非接觸的方式同時分析300mm和200mm晶圓上各種薄膜的厚度和成分。兼容 GEM300 和 300mm Fab 的內聯(lián)規(guī)格。 XYθZ驅動方式的樣品臺能夠準確分析各種金屬薄膜,同時避免衍射線的影響。使用4kW高功率X射線管可以測量微量元素。此外,可以使用高靈敏度硼檢測器對 BPSG 薄膜中的硼等超輕元素進行高精度分析。它配備了樣品高度校正功能和Auto Cal(全自動日常檢查/強度校正功能),這是頂部照射方法中。


WaferX 310 概述

兼容微量元素濃度和成分分析

兼容從輕元素到重元素的多種元素:  4 Be 到92 U

高靈敏度硼檢測儀AD-Boron 

我們不斷開發(fā)新的光學系統(tǒng),例如改進硼分析能力,以提高分析精度和穩(wěn)定性。 此外,恒溫機構和真空度穩(wěn)定機構是用于穩(wěn)定的標準設備。

XY-θ-Z驅動臺

XY-θ-Z 驅動方法樣品臺和測量方向設置程序可實現(xiàn)整個晶圓表面上的精確薄膜厚度和成分分布測量。 鐵電薄膜也不受衍射線的影響。

應用

半導體器件 BPSG, SiO 2 , Si 3 N4, ... 摻雜多晶硅(B,P,N,As), Wsix, ... AlCu, TiW, TiN, TaN, ... PZT, BST, SBT, .. MRAM、...?  
金屬膜W、Mo、Ti、Co、Ni、Al、Cu、Ir、Pt、Ru、...   
高κ/金屬柵Al、La、Hf、...  
焊料凸塊

豐富的固定測角儀陣容

我們根據膜厚和膜結構提供最佳的固定測角儀。我們還有一個專用的光學系統(tǒng),可以分析硅晶圓上的 Wsix 薄膜。

全自動設備日常管理功能AutoCal

為了獲得準確的分析值,必須正確校準儀器。為此,必須定期測量檢查晶圓和PHA調整晶圓作為管理晶圓,以保持設備處于良好狀態(tài)。這種日常校準工作是自動化的,減少了操作員的工作量。 這就是“AutoCal 功能"。

兼容 300mm 晶圓廠

Fab配備標準FOUP/SMIF接口,兼容300mm/200mm晶圓。 它還支持各種AMHS,并通過支持主機和SECS/GEM協(xié)議來支持CIM/FA。

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